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盛好意思上海等离子体增强原子层千里积炉管拓荒通过初步考据，原子层千里积炉管居品进一步强化
发布日期：2024-12-13 09:54 点击次数：150
盛好意思上海等离子体增强原子层千里积炉管拓荒通过初步考据，原子层千里积炉管居品进一步强化
盛好意思半导体拓荒（上海）股份有限公司（以下简称“盛好意思上海”）（科创板股票代码：688082），四肢一家为半导体前谈和先进晶圆级封装哄骗提供晶圆工艺处治决议的超卓供应商，本日晓示，其2024年推出的Ultra Fn A等离子增强型原子层千里积炉管拓荒（PEALD）已初步通过中国大陆一家半导体客户的工艺考据，正在进行临了优化和为迈入量产作念准备。
盛好意思上海还晓示，其于2022年推出的Ultra Fn A热原子层千里积炉拓荒（Thermal ALD）也已告捷通过另一家最初的中国大陆客户的工艺考据，性能参数并列同类外洋竞品，致使更胜一筹。
盛好意思上海董事长王晖博士暗意：“当代集成电路（IC）的制造历程，越来越依赖具有超卓路子隐蔽率以及高质料的精确薄膜千里积期间。应付诸如氮化碳硅、氮化硅薄膜和上下介电常数薄膜等千里积材料所带来的复杂挑战，需要真的的革命，而盛好意思上海的研发团队凭借其先进的原子层千里积（ALD）平台和工艺已迟缓接近和完成这一绸缪。咱们服气，盛好意思上海的私有各别化想象决议梗概处治先进三维结构制造中靠近的艰苦。”
盛好意思上海的Ultra Fn A ALD立式炉拓荒居品包括热原子层千里积（热ALD）和等离子体增强原子层千里积（PEALD）两种设立，可实施硬掩模层、挣扎层、远离层、侧壁保护层、介质填充等多种薄膜千里积任务，满足绸缪工艺哄骗的多样需求。这两种设立均取舍六单位系统，可批量处理多达100片300mm晶圆。该拓荒还包括四个装载端口系统（装载区可摒弃氧气浓度）、一个集成供气系统（IGS）和一个原位干法清洗系统，系数想象均相宜SEMI轨范。
伸开剩余53%Ultra Fn A
等离子增强原子层千里积炉管拓荒
盛好意思上海的Ultra Fn A PEALD拓荒面前哄骗千里积氮化硅 (SiN) 薄膜。该机具取舍双层管想象以及气流均衡期间，梗概显耀提高晶圆内（WIW）和晶圆间（WTW）的均匀性。通过取舍等离子增强期间，该拓荒还可灵验裁减器件的热预算。此外，通过微调先行者体在前置单位中的存储和开释量，梗概达成摒弃器件的重要尺寸和图案玄虚。
Ultra Fn A
热形态原子层千里积炉管拓荒
盛好意思上海的Ultra Fn A碳氮化硅（SiCN）热形态原子层千里积炉管拓荒已通过国内最初的集成电路制造客户的考据。该拓荒梗概已毕超薄、无赋闲的薄膜千里积，况兼梗概精确摒弃薄膜厚度，炒股开户达到原子级别的千里积精度。同期，该拓荒还梗概已毕精确的碳掺杂，从而提高薄膜的硬度和耐腐蚀性。此外，该拓荒还具有内置的干法清洁功能，梗概确保颗粒的踏实性。
对于盛好意思上海
盛好意思坚握“客户大众化”计谋，在做事好国内客户以外，同期积极开拓外洋市集，外洋客户遍布好意思国、韩国、中国台湾、东南亚和欧洲市集。盛好意思恒久坚握“期间各别化”和“居品平台化”计谋，告捷布局了七大板块居品，分歧是清洗拓荒、电镀拓荒、先进封装湿法拓荒、立式炉管拓荒、涂胶显影拓荒、PECVD拓荒和面板级封装拓荒，可隐蔽市集约200亿好意思元。四肢清洗和电镀拓荒的龙头企业，盛好意思清洗拓荒也曾隐蔽了95%工艺措施哄骗，电镀拓荒已毕期间全隐蔽，系数居品齐具有自主常识产权，领有多项原创期间，举例SAPS及TEBO两代兆声波清洗期间和Tahoe单片槽式组合清洗期间大众最初，多阳极电镀期间达到外洋先进水平。此外，面板级封装是AI芯片改日发展的必由之路，盛好意思也曾率先推出了面板级水平式电镀、负压清洗、边际刻蚀拓荒，期待这三款拓荒将共同股东具有高精度特点的大型面板先进封装行业超越以及扇出型面板级封装期间市集发展。
发布于：北京市